Moin allerseits, da ich mich halt für Technik interessiere und auch in der Ausbildung täglich damit zu tun habe, möcht ich halt allerei Sachen wissen.

Habe mir gerade diesen Beitrag durchgelesen, sowie die Kommentare: http://winfuture.de/news,44745.html

Da ist mir die Frage aufgekommen, wie klein können die Fertigungsverfahren rein technisch etc gesehen noch werden?
Hat jemand eine Antwort oder irgendwelche Vermutungen mit Begründungen bitte ?

Wäre nett wenn ihr mich etwas aufklären könnte

MfG

Als Einstieg lese doch mal den Wikipedia Artikel zum Mooreschen Gesetz.

Unter dem Stichwort Fotolithografie steht auch noch einiges...

edit: siehe oben..

Ok habe ich das richtig verstanden, das es möglich wäre mit EUV-Lithografie und den sogenannten NIL Verfahren strukturen noch unter 22nm erreichbar sind?

Aber bei EUV gibt es ja anscheinend die Probleme das diese kleine Wellenlänge nicht mehr mit Lasern zu bewerkstelligen ist und daher sogenannte EUV-Plasma-Quellen entwickelt werden sollen, habe ich das richtig verstanden?
Was ist diese EUV-Plasma-Quelle eigentlich bzw wie soll das genau funktionieren?

Also wäre das Mooresche Gesetz noch bis zur Fertigungsgröße 10nm anwendbar und danach nicht mehr oder wie?
Habe das so verstanden das alles unterhalb von 10nm mit der Größe der Atome zu tun hat und es bald nicht mehr möglich ist?

Soviele Fragen, ich hoffe mir kann da jemand weiterhelfen